EUV光刻
中国科学院上海光机所林楠团队成功开发出LPP-EUV光源,技术达到国际领先水平,对中国自主生产芯片具有重要意义。该技术有望突破中国自主生产芯片的阻碍。
中国科学院上海光学精密机械研究所成功开发出LPP-EUV光源技术,有望突破中国芯片生产的技术瓶颈。
中国科学院上海光学精密机械研究所成功开发出基于固体激光器技术的LPP-EUV光源,达到国际领先水平,有望打破西方在EUV光刻技术方面的长期垄断。