韭研

上海光机所EUV光刻技术获重大突破，关注固体激光器相关个股

【上海光机所EUV光刻技术获重大突破中国芯片生产有望不再被美国“卡脖子”】4月29日消息，据环球时报、观察者网等报道，中国科学院上海光学精密机械研究所林楠研究员带领团队，绕过二氧化碳激光，使用固体激光器技术成功开发出LPP-EUV光源，已经达到国际领先水平，对中国自主开展EUV光刻有重要意义。上述报道称，该技术有望突破中国自主生产芯片的阻碍。

据悉，EUV光刻机中最核心的分系统是激光等离子体（LPP）EUV光源，主要关注能量转换效率（CE）。二氧化碳激光器激发的Sn等离子体CE大于5%，是ASML光刻机的驱动光源，但此前这类光源由美国Cymer制造，在世界范围内处于垄断地位。因此，林楠团队考虑使用固体脉冲激光器代替二氧化碳激光作为驱动光源，但能量效率需要进一步提升。


 

 

资讯解析

行业:
半导体
标的:
上海光机所 ASML Cymer
标签:
EUV光刻 芯片 国产化 技术突破 光刻技术 EUV光刻技术 芯片国产化 科技自主创新 芯片产业链国产化
摘要:
中国科学院上海光学精密机械研究所成功开发出LPP-EUV光源技术,有望突破中国芯片生产的技术瓶颈。
多方:
技术突破将提升中国芯片自主生产能力,减少对外依赖,利好国内半导体产业链发展。
空方:
技术商业化仍需时间,短期内可能难以对ASML等国际巨头构成实质性竞争。