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“铋基芯片”横空出世 1nm!超越英特尔、台积电的最先进环栅晶体管。

铋基芯片横空出世 1nm

史上速度最快效率最高的晶体管

绕过光刻机封锁

跳过传统光刻路径

北大 "铋基芯片" 横空出世

01

二维环栅晶体管中国团队的颠覆性突破

北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队与电子学院邱晨光研究员团队合作研制出世界首例低功耗高性能二维环栅晶体管及逻辑单元通过硒氧化铋Bi₂O₂Se材料与自然氧化物栅介质Bi₂SeO₅的结合实现了晶体管性能的跨代升级成果在自然-材料发表该晶体管的速度和能效同时超过了硅基物理极限是世界上迄今速度最快能耗最低的晶体管该工作有望推动芯片领域新一轮技术革新为我国先进制程集成电路制造技术发展赢得主动

02

技术核心从 "硅基捷径" 到 "二维换道"

作为 3 nm 及以下制程的核心技术GAAFET环栅晶体管并非新概念北大的革命性在于用二维材料替代硅基—— 选用的硒氧化铋Bi₂O₂Se是近年研究热点其原子级厚度~1 nm不仅解决了硅基 10 nm 以下载流子迁移率衰减问题还兼具柔性与稳定性在相同工作条件下他们研制的铋基二维环栅晶体管性能已超越英特尔台积电三星比利时微电子中心报道的最先进环栅晶体管

03

从硅到铋中国半导体的 "破局之路"

当今世界硅基材料最先进制程工艺也达到3纳米节点中国大陆的制造工艺暂时还不能生产出同等精度的硅基晶体管但如果以中国大陆现有加工技术制造的该新型二维环栅晶体管据课题组预估其速度已可以达到国际上最先进硅基芯片的约1.4倍而能耗仅为其90%随着制造工艺精度的提升这些指标将与硅基器件进一步拉大领先优势

04

更多可能用基础研究的突破撕开技术封锁的铁幕

现阶段该晶体管还可以用于制造高性能传感器和柔性电子器件而团队也发现该二维环栅晶体管的更大潜力铋基二维晶体管具有丰富的科学内涵与广阔的应用前景我们正开展更深入研究随着技术优化该类晶体管有望实现传感存储计算一体化集成功能这种感存算一体化将引发更具竞争力的技术革新




资讯解析

行业:
半导体
标的:
标签:
铋基芯片 二维环栅晶体管 半导体 先进制程 北京大学 芯片制造 GAAFET 先进制程技术 半导体材料创新
摘要:
北京大学团队研发出世界首例低功耗高性能二维环栅晶体管,采用硒氧化铋材料,性能超越硅基物理极限,有望推动芯片领域技术革新。
多方:
该技术的突破为中国半导体产业提供了绕过光刻机封锁的新路径,有望推动芯片领域的技术革新,提升中国在全球半导体产业链中的地位。
空方:
虽然技术突破显著,但实际产业化仍面临挑战,包括大规模生产、成本控制以及与现有半导体生态的兼容性问题。