上海新阳：午间回复ArF浸没式光刻胶已取得销售订单，一季度净利增171%

【上海新阳：ArF浸没式光刻胶已取得销售订单】4月22日，上海新阳在互动平台上表示，公司主要开发括I线、KrF、ArF在内的各类晶圆制造用光刻胶，已实现KrF光刻胶多款产品批量化销售，2024年光刻胶产品整体销售规模持续增加，同比增长超100%，ArF浸没式光刻胶已取得销售订单，迈出了实现产业化的第一步。

上海新阳的业务及亮点如下：

业务方面

- 半导体材料业务：包括后道传统封装材料、前道晶圆制程材料、后道先进封装材料。产品有大马士革铜互连、TSV、Bumping电镀液及配套添加剂，铜制程蚀刻后清洗液，铝制程蚀刻后清洗液，氮化硅蚀刻液，化学机械研磨后清洗液，无铅纯锡电镀液及添加剂，去毛刺溶液，逻辑和模拟芯片制造用的I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF干法光刻胶，存储芯片制造用的KrF厚膜光刻胶，底部抗反射膜（BARC）等。

- 半导体配套设备业务：通过子公司新阳硅密开展，主要从事300mm批量式清洗机与300mm单片电镀机的开发，为中国大陆芯片制造行业提供湿法工艺支持以及设备服务。

- 涂料业务：主要由子公司考普乐承载，主营PVDF氟碳粉末涂料，与半导体主业运行基本独立，公司计划剥离涂料板块，聚焦发展半导体业务。

亮点方面

- 技术研发实力强：是工信部第一批“专精特新”小巨人企业，拥有上海市集成电路关键工艺材料重点实验室。作为民营企业，承担了多项国家专项项目，开发的超纯硫酸铜电镀液及添加剂打破国际垄断。截至2022年末，已申请发明专利273项（授权117项），国际发明专利17项（授权8项）。

- 光刻胶业务进展良好：光刻胶项目在客户测试中表现出色，ArF光刻胶研发成功推进多个产品的测试验证，部分产品性能接近对标产品。I线、KrF光刻胶产品已在超10家客户端测试验证，取得部分样品订单，部分产品获晶圆制造企业小批量连续订单。

- 半导体业务增长强劲

- 产能扩张有序推进：上海厂区年产能1.9万吨扩充目标已完成，合肥第二生产基地一期二期同时建设，合计规划产能7万吨，一期在设备安装调试阶段。上海化学工业区项目预计年产500吨I线、KrF、ArF干/湿法光刻胶等多种产品。

- 客户资源优质：与多家知名机构建立长期合作关系，产品广泛应用于集成电路制造、3D - IC先进封装、IC传统封测等领域，拥有客户180余家。

资讯解析