半导体

EUV光刻技术 国产替代 半导体 上海光机所 光刻技术 EUV光刻技术突破

上海光机所在EUV光刻技术领域取得重大突破,有望助力中国芯片生产摆脱对美国技术的依赖。

这一技术突破将显著提升中国芯片产业的自主可控能力,减少对外部技术的依赖,推动国产半导体设备的发展。

尽管技术取得突破,但EUV光刻技术的商业化量产仍面临挑战,短期内可能难以完全替代进口设备。